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CMP后雙面清洗機(jī)

    CHEMIXX CMP 30pm是一款專門為晶圓雙面清洗設(shè)計的系統(tǒng),獨立系統(tǒng),占地面積小,非常適合有限的空間。具有4路化學(xué)液清洗,兆聲清洗,雙面PVA刷洗,去離子水沖洗等清洗模塊,對晶圓有頂級的清洗能力。

    更新時間:2022-11-25 17:29:15
  1. 詳細(xì)信息

n產(chǎn)品簡介

 

CHEMIXX CMP 30pm是一款專門為晶圓雙面清洗設(shè)計的系統(tǒng),獨立系統(tǒng),占地面積小,非常適合有限的空間。具有4路化學(xué)液清洗,兆聲清洗,雙面PVA刷洗,去離子水沖洗等清洗模塊,對晶圓有頂級的清洗能力。

 

n產(chǎn)品特色

 

÷  晶圓最大 300mm

÷ PVA雙面刷洗

÷ 支持4路化學(xué)液清洗,包括氨水與SCI液體

÷ 工作臺含驅(qū)動組件,用于晶圓低速旋轉(zhuǎn)(50-100 rpm

÷ 化學(xué)清洗臂含 4 路化學(xué)液

÷ 具有去離子水和稀釋氨分配的水坑噴嘴

÷ ??????? 具有去離子水的 BSR(背面沖洗)噴嘴

÷ ??????? 具有帶有流通孔的工藝室

÷ ??????? 標(biāo)配三種不同化學(xué)品供應(yīng)系統(tǒng)

÷ ??????? 工藝室外的手動去離子水槍。

÷ ??????? 化學(xué)液可加熱,最高可達(dá) 60°C(最高85°C 

÷ ??????? 外部可更換化學(xué)液

÷ ??????? 支持兆聲清洗

÷ ??????? 支持高壓等離子水沖洗

 

n技術(shù)數(shù)據(jù) 

 

÷ ??????? 襯底尺寸: ?200 mm (?8 inch)  ?300 mm (?12 inch)

÷ ??????? 電機(jī)轉(zhuǎn)速最大 3.000 rpm步長 1rpm

÷ ??????? 電機(jī)加速: 1  999.9 秒,步長 0.1 s

÷  工藝腔室 PP 白色制成(可選 PVDF)

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